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| 申请号 | 200610050726.1 |
申请日 | 2006.05.12 |
| 名称 | 一种废硅料清洗方法 |
| 公开(公告)号 | CN1947870 |
公开(公告)日 | 2007.04.18 |
| 主分类号 | B08B3/08(2006.01)I |
分案原申请号 | |
| 分类号 | B08B3/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;C23G1/14(2006.01)I;C23G1/24(2006.01)I |
| 颁证日 | |
优先权 | |
| 申请(专利权)人 | 浙江昱辉阳光能源有限公司 |
| 地址 | 314117浙江省嘉善县姚庄镇工业区宝群路8号 |
| 发明(设计)人 | 吴云才 |
国际申请 | |
| 国际公布 | |
进入国家日期 | |
| 专利代理机构 | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 |
代理人 | 徐关寿 |
| 专利描述 |
本发明属于半导体材料清洗处理技术领域，特别涉及对废硅料去除表面污 物的废硅料清洗方法，包括下列步骤：(1)硅料投放于碱液中浸泡；(2)待碱液 中硅料上浮时，捞取硅料，用纯水冲洗并沥干；(3)投放于第二个碱液中浸泡； (4)待碱液中硅料上浮时，捞取硅料，用纯水冲洗并沥干；(5)投放于盐酸、过 氧化氢的混合溶液中浸泡，压缩空气鼓泡；(6)将中和液中浸泡的硅料投放于纯 水中浸泡，捞取并烘干。经本发明清洗后的废硅料完全清除了硅料表层的污染 物，清洗过的废硅料符合制作半导体元器件的清洁要求。 |
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